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high temperature coating process equipment (47) Online-Hersteller

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Hochtemperaturbeschichtungsverfahren mit Vorläufern und Prozessgasen TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO2 HCl H2S

Vorläufer und Prozessgase: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

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Elektrische Widerstandsheizung CVD-Beschichtungsmaschine für Hochtemperaturbeschichtung bis zu 1000 °C chinesisches und schlüsselfertiges Projekt

Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

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Chinesischer Lieferant Wolframkarbid Hochtemperatur-Gasdruck-Sinterofen 1-20MPA

Verpackung Informationen: Holzfälle

Lieferzeit: 5-6 Monate

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Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C

Reaktor: 2 Stück

Maximale Temperatur:: 1100℃

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Berufsofen der hohen Temperatur Vakuumfür nicht Metallkeramik-/sic Karbid

Name: Hohe Temperatur u. Hochvakuum-sinternder Ofen

Spezifikationen: RDE-GWL-5518

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Erweiterte CVD-Beschichtungsmaschine für Keramik-Substrat

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

Beschichtungshaftung: Stärker

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Elektroheizung Vakuumbeschichtungssystem mit 5-20um Beschichtungstärke und 400kg Lastgewicht

Beschichtende Temperatur: 200-1050℃

Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle

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MT-CVD HT-CVD Beschichtungsöfen mit hoher Beschichtungsqualität und anpassbarem Reaktor

Beschichtende Temperatur: 200-1050℃

Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle

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Hochtemperatur-Legierungskammer Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsmaschine für Wolframkarbid-Schneidwerkzeug

Vorläufer und Prozessgase: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Größe der Beschichtungsanlage: Anpassbar

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Elektrische CVD-Beschichtungsmaschine zur Heizung von Titankarbid (TiC) und Titannitrid (TiN)

Steuerungssystem: PLC

Stromversorgung: AC380V/50HZ

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PLC Chemische Dampfdeposition Beschichtung Maschine mit 2 Sätze Wassergekühlte Kondensat-Fallen

Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle

Beschichtende Temperatur: 200-1050℃

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5-20um Chemische Dampfdeposition Beschichtungsmaschine mit Beschichtungstemperatur 200-1050°C

Beschichtungsart: CVD

Beschichtungsdicke: 5-20 um

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Elektrische Oberflächenbeschichtungsmaschine mit Bronkhost MFC zur präzisen Durchflusskontrolle

Stromversorgung: AC380V/50HZ

Beschichtungsmaterial: Titankarbid (TiC); Titannitrid (TiN); Titankarbonitrid (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

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0.1-1.0MPa Beschichtungsdruck CVD-Beschichtungsmaschine 200-1050°C Beschichtungstemperatur

Beschichtungsmaterial: Titankarbid (TiC); Titannitrid (TiN); Titankarbonitrid (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

Beschichtungsart: CVD

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CVD Vakuumbeschichtungsmaschine AC380V/50Hz Stromversorgung ±2mbar Beschichtungsdruck Einheitlichkeit

Beschichtungsdicke: 5-20 um

Beschichtungsmaterial: Titankarbid (TiC); Titannitrid (TiN); Titankarbonitrid (MT/HT-TiCxNy); α-Al2O3

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Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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