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Cvd-Beschichtungs-Maschine

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Vertikaler großer pyrolytischer Kohlenstoff-CVI-Ofen Ober-/Unterlast mit maximaler Betriebstemperatur von 1300 °C

Max.Betriebstemperatur ((°C): 1300

Temperaturgleichheit ((°C): ≤ ± 7

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Ein guter Preis. Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen Online Video

Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Ein guter Preis. Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C Online Video

Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Ein guter Preis. Individuell angepasste Cvd-Labor-Vakuumöfen Chemische Dampfdeposition Cvd-Beschichtungöfen Online Video

Individuell angepasste Cvd-Labor-Vakuumöfen Chemische Dampfdeposition Cvd-Beschichtungöfen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Ein guter Preis. Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C Online Video

Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Ein guter Preis. HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen Online Video

HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

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Ein guter Preis. 1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum Online Video

1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

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Ein guter Preis. China CVD Ofen Manufactures, Siliziumkarbid Beschichtung Maschine Online Video

China CVD Ofen Manufactures, Siliziumkarbid Beschichtung Maschine

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

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TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Beschichtungen CVD-Ofen mit Temperaturregelung von 700-1050 °C

Heizzone: 4 Stück/5 Stück

Maximale Temperatur:: 1100℃

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Ein guter Preis. Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C Online Video

Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C

Reaktor: 2 Stück

Maximale Temperatur:: 1100℃

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RDE 530L CVD-Beschichtungsmaschine zum Drehen von Stahlteilen und Gusseisen

Reaktor: 2 Stück

Maximale Temperatur:: 1100℃

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MT-CVD HT-CVD Beschichtungsöfen mit hoher Beschichtungsqualität und anpassbarem Reaktor

Beschichtende Temperatur: 200-1050℃

Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle

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PLC Chemische Dampfdeposition Beschichtung Maschine mit 2 Sätze Wassergekühlte Kondensat-Fallen

Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle

Beschichtende Temperatur: 200-1050℃

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Elektroheizung Vakuumbeschichtungssystem mit 5-20um Beschichtungstärke und 400kg Lastgewicht

Beschichtende Temperatur: 200-1050℃

Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle

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5-20um Chemische Dampfdeposition Beschichtungsmaschine mit Beschichtungstemperatur 200-1050°C

Beschichtungsart: CVD

Beschichtungsdicke: 5-20 um

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RDE 530L CVD-Beschichtungsmaschine mit zwei Reaktionskammern und -Heizelementen

Reaktionskammer: 2 PCS

Maximale Temperatur:: 1100℃

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