Cvd-Beschichtungs-Maschine

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Vorläufer und Prozessgase: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

Beschichtungsverfahren: Chemische Dampfdeposition (CVD)

Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW

Vorläufer und Prozessgase: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Größe der Beschichtungsanlage: Anpassbar

Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

Beschichtungshaftung: Stärker

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Max.Betriebstemperatur ((°C): 1300

Temperaturgleichheit ((°C): ≤ ± 7

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300