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Rapid Response-Vakuumwärmebehandlungs-Ofen-Reaktion, welche die Anforderungen des Benutzers übereinstimmt

Struktur: einzelne Kammer, horizental Art

Maß: Besonders angefertigt

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Kundengebundene Vakuumwärmebehandlungs-Ofen kundengebundene Größe und Konfiguration

Größe: Kundengebundene Größe

Struktur: einzelne Kammer, horizental Art

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Große Kapazitäts-Vakuumofen für Wärmebehandlungs-Spezifikationen RDE-GWL-5518

Name: Vakuumofen für Wärmebehandlung

Spezifikationen: RDE-GWL-5518

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Ein guter Preis. Wolframzementkarbidlegierungen HIP Sinterofen und Debind-Verfahren mit maximalem Arbeitsdruck von 9,8 bar Online Video

Wolframzementkarbidlegierungen HIP Sinterofen und Debind-Verfahren mit maximalem Arbeitsdruck von 9,8 bar

Max. Arbeitszeit.: 1800℃

Max.working-Druck: 9.8bar

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Bereiten Sie Heizungs-Vakuum integrierte sinternden Ofen Debinding für Laborhartmetall-Suche auf

Nutzungsdauer: 20 Jahre

Anwendung: harte Legierungen

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Einzelnes Zonen-Vakuumsinternder Ofen für harte Legierungs-Entparaffinierung

Nutzungsdauer: 20 Jahre

Betriebszeiten: 300mal/Jahr

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Ein guter Preis. Metallsinterung für Wolframkarbid, Kupferlegierung und andere Materialien Online Video

Metallsinterung für Wolframkarbid, Kupferlegierung und andere Materialien

Max. Arbeitszeit.: 1800℃

Max.working-Druck: 9.8bar

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Einfach betreiben Sie, industriellen Vakuumofen/integrierte Vakuumentparaffinierungs-sinternden Ofen

Verwendung: Sinternder Ofen, Vakuumofen

Gewicht: 2T-35T

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Horizontaler industrieller Vakuumofen mit integrierter Entparaffinierungs-Sinternfunktion

Verwendung: Sinterofen, Vakuumofen

Gewicht: 2t-35t

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Multifunktionssinter HIP-Ofen mit stabiler Struktur für das stabile Sintern

Verwendung: sinternder Ofen

Garantie: 1-jährig

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Ein guter Preis. Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C Online Video

Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Max.Betriebstemperatur ((°C): 1200

Temperaturgleichheit ((°C): ≤ ± 3

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horizontale Vakuumöfen der einzelnen Kammer-58bar

Struktur: einzelne Kammer, horizental Art

Effektive Heizzone: 300*300*900mm

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Anpassungsfähiger 900-1050C chemischer Dampf-Aluminierungsofen mit Hf Zr und Si-Codeposition

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Präzise Temperaturregelung beim Vakuumsintern mit hochtemperaturbeständigem K-Typ-Thermoelement aus Kohlenstoffverbundstoff

Heizelement: Graphit, Molybdän

Temperaturüberwachungssystem: Steuerung PID

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