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high vacuum furnace (479)  Online-Hersteller

Steuerungs-Metallsinternder Ofen-Stromversorgung AC380V±10% 50HZ

Name: Metallsinternder Ofen

Vorteil: zuverlässig, stützbar, dauerhaft

Beste Preis erhalten

Kundengebundener sinternder Ofen des Test-MIM für Eisen-, Titan-Debinding-Prozess

Temperatur: maximales 2100℃

Farbe: Schwarzweiss

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Benutzerfreundliches Keramik-Vakuumsinternder Ofen für Hartmetall

Verwendung: sinternder Ofen

Garantie: 1-jährig

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Ein guter Preis. Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C Online Video

Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C

Reaktor: 2 Stück

Maximale Temperatur:: 1100℃

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Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen für Zement-/Wolframkarbid-Schneidwerkzeug

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Hohe automatische Abklingzeit des sinternden Ofen-MIM 300-420min/480min

Name: MIM Sinterofen

Farbe: Weiß

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Ein guter Preis. 6MPA Dewaxing Druck Sinterofen für Zermete Nicht-Zermete Precison Keramik Halbleiter Siliziumnitrid Online Video

6MPA Dewaxing Druck Sinterofen für Zermete Nicht-Zermete Precison Keramik Halbleiter Siliziumnitrid

Temperatur: 1550°C bis 2200°C

Max.Ladelast: 500 kg/1200 kg/1500 kg/2500 kg

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CVD-Beschichtungsöfen aus Siliziumkarbid für Graphit-Suppositoren oder Ätzerringe

Verpackung Informationen: Holzgehäuse

Lieferzeit: 5 bis 6 Monate

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MT-CVD HT-CVD Beschichtungsöfen mit hoher Beschichtungsqualität und anpassbarem Reaktor

Beschichtende Temperatur: 200-1050℃

Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle

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Ein guter Preis. 1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum Online Video

1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

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Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

Honeycomb Keramik-CVD-Beschichtungs-Ofen für die Prozesstemperatur von 700-1050 °C und optionale Off-Gas-Neutralisierung

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Hochtemperatur-Industrie-Reinigungsöfen für Graphitmaterialien

Max.Betriebstemperatur: 2400℃

Temperaturgleichheit: ≤±10℃

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Anpassungsfähiger 900-1050C chemischer Dampf-Aluminierungsofen mit Hf Zr und Si-Codeposition

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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