logo

6MPA Dewaxing Druck Sinterofen für Zermete Nicht-Zermete Precison Keramik Halbleiter Siliziumnitrid

Sinterhüftenofen
2024-11-05
736 Ansichten
Kontaktieren Sie uns jetzt
6MPA Drucksinterungsöfen für Cermets, Nichtcermets, Präzisionskeramik, Halbleitersilikonnitrid Ausrüstungssystem Es umfaßt hauptsächlich Steuerungssystem, Heizungssystem, positives und negatives Druck... Weitere Informationen
Nachrichten des Besuchers Hinterlassen Sie eine Nachricht.
6MPA Dewaxing Druck Sinterofen für Zermete Nicht-Zermete Precison Keramik Halbleiter Siliziumnitrid
6MPA Dewaxing Druck Sinterofen für Zermete Nicht-Zermete Precison Keramik Halbleiter Siliziumnitrid
Kontaktieren Sie uns jetzt
Mehr erfahren
In Verbindung stehende Videos
1-10MPa Gasdruck Drucksinterungsofen für Trockenvakuumsintern im Vakuumgrad 00:18
1-10MPa Gasdruck Drucksinterungsofen für Trockenvakuumsintern im Vakuumgrad

1-10MPa Gasdruck Drucksinterungsofen für Trockenvakuumsintern im Vakuumgrad

Sinterhüftenofen
2026-01-06
Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity 00:19
Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Sinterhüftenofen
2025-09-24
SIC-Karbid-Hochtemperatur-Sinterungsschutzherd für Vakuumsinternen 00:06
SIC-Karbid-Hochtemperatur-Sinterungsschutzherd für Vakuumsinternen

SIC-Karbid-Hochtemperatur-Sinterungsschutzherd für Vakuumsinternen

Sinterhüftenofen
2024-11-05
Schnellkühlöfen für die spezielle Sinterung von Zementkarbid und Kermetten 00:13
Schnellkühlöfen für die spezielle Sinterung von Zementkarbid und Kermetten

Schnellkühlöfen für die spezielle Sinterung von Zementkarbid und Kermetten

Sinterhüftenofen
2024-11-12
Sinter HIP-Ofen Hc Abweichung≤±0,3KA/M Struktur Horizontale Art Betriebszeit 300 Ofen/Zeit 00:34
Sinter HIP-Ofen Hc Abweichung≤±0,3KA/M Struktur Horizontale Art Betriebszeit 300 Ofen/Zeit

Sinter HIP-Ofen Hc Abweichung≤±0,3KA/M Struktur Horizontale Art Betriebszeit 300 Ofen/Zeit

Sinterhüftenofen
2025-04-22
Pulvermetallurgie Industrieheizungsanlagen 00:13
Pulvermetallurgie Industrieheizungsanlagen

Pulvermetallurgie Industrieheizungsanlagen

Sinterhüftenofen
2025-02-11
Schlüsselfertiges Projekt für Zementierte/Wolframkarbid-Schneidwerkzeuge mit intelligentem Gasdruck-Sinterofen 00:35
Schlüsselfertiges Projekt für Zementierte/Wolframkarbid-Schneidwerkzeuge mit intelligentem Gasdruck-Sinterofen

Schlüsselfertiges Projekt für Zementierte/Wolframkarbid-Schneidwerkzeuge mit intelligentem Gasdruck-Sinterofen

Gasdruck-sinternder Ofen
2026-01-20
Sintern mit 50 Hz Heizleistung MIM Sintern in Vakuumöfen 00:36
Sintern mit 50 Hz Heizleistung MIM Sintern in Vakuumöfen

Sintern mit 50 Hz Heizleistung MIM Sintern in Vakuumöfen

Vakuumwärmebehandlungs-Ofen
2025-08-25
Vakuumofen Typ Drucksintersinterofen in grauer Lackfarbe für fortschrittliches Sintern 00:42
Vakuumofen Typ Drucksintersinterofen in grauer Lackfarbe für fortschrittliches Sintern

Vakuumofen Typ Drucksintersinterofen in grauer Lackfarbe für fortschrittliches Sintern

Vakuumwärmebehandlungs-Ofen
2025-08-25
Anpassungsfähige Kammergröße Vakuum Hochdrucköfen für präzise Wärmebehandlungsanwendungen 00:26
Anpassungsfähige Kammergröße Vakuum Hochdrucköfen für präzise Wärmebehandlungsanwendungen

Anpassungsfähige Kammergröße Vakuum Hochdrucköfen für präzise Wärmebehandlungsanwendungen

industrieller Vakuumofen
2025-05-20
AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C 00:22
AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C

AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2025-09-08
Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C 00:19
Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Ofen der hohen Temperatur Vakuum
2025-02-21
Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung 00:27
Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung

Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung

Gasdruck-sinternder Ofen
2025-04-22
HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen 00:33
HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen

HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2024-11-12
Widerstand Graphit Heizelement Sinterofen für die hochmoderne Pulvermetallurgie 00:16
Widerstand Graphit Heizelement Sinterofen für die hochmoderne Pulvermetallurgie

Widerstand Graphit Heizelement Sinterofen für die hochmoderne Pulvermetallurgie

Metallsinternder Ofen
2025-05-20