logo

2300°C Max. Temperatur-Wärmebehandlungs-Ofen für die Materialverhärtung / -Auslöschung / -Lötung

Vakuumwärmebehandlungs-Ofen
2024-11-12
227 Ansichten
Kontaktieren Sie uns jetzt
2300°C Höchsttemperatur Wärmebehandlungsofen für die Materialschmelze, -löschung, -bräsen Anwendungen für Sinteröfen Häufige Anwendungen sind das Sintern von Metall- oder Keramikpulvern, die ... Weitere Informationen
Nachrichten des Besuchers Hinterlassen Sie eine Nachricht.
2300°C Max. Temperatur-Wärmebehandlungs-Ofen für die Materialverhärtung / -Auslöschung / -Lötung
2300°C Max. Temperatur-Wärmebehandlungs-Ofen für die Materialverhärtung / -Auslöschung / -Lötung
Kontaktieren Sie uns jetzt
Mehr erfahren
In Verbindung stehende Videos
Sintern mit 50 Hz Heizleistung MIM Sintern in Vakuumöfen 00:36
Sintern mit 50 Hz Heizleistung MIM Sintern in Vakuumöfen

Sintern mit 50 Hz Heizleistung MIM Sintern in Vakuumöfen

Vakuumwärmebehandlungs-Ofen
2025-08-25
Vakuumofen Typ Drucksintersinterofen in grauer Lackfarbe für fortschrittliches Sintern 00:42
Vakuumofen Typ Drucksintersinterofen in grauer Lackfarbe für fortschrittliches Sintern

Vakuumofen Typ Drucksintersinterofen in grauer Lackfarbe für fortschrittliches Sintern

Vakuumwärmebehandlungs-Ofen
2025-08-25
Anpassungsfähige Kammergröße Vakuum Hochdrucköfen für präzise Wärmebehandlungsanwendungen 00:26
Anpassungsfähige Kammergröße Vakuum Hochdrucköfen für präzise Wärmebehandlungsanwendungen

Anpassungsfähige Kammergröße Vakuum Hochdrucköfen für präzise Wärmebehandlungsanwendungen

industrieller Vakuumofen
2025-05-20
1-10MPa Gasdruck Drucksinterungsofen für Trockenvakuumsintern im Vakuumgrad 00:18
1-10MPa Gasdruck Drucksinterungsofen für Trockenvakuumsintern im Vakuumgrad

1-10MPa Gasdruck Drucksinterungsofen für Trockenvakuumsintern im Vakuumgrad

Sinterhüftenofen
2026-01-06
Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C 00:19
Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Ofen der hohen Temperatur Vakuum
2025-02-21
Graphitisationsöfen für die industrielle Vakuumgraphitisierung für Kohlenstoffmaterial 00:19
Graphitisationsöfen für die industrielle Vakuumgraphitisierung für Kohlenstoffmaterial

Graphitisationsöfen für die industrielle Vakuumgraphitisierung für Kohlenstoffmaterial

Vakuumwärmebehandlungs-Ofen
2025-02-11
Edelstahl-Mim-Sinter-Hip-Ofen Echtzeit-Dynamische Überwachung 00:34
Edelstahl-Mim-Sinter-Hip-Ofen Echtzeit-Dynamische Überwachung

Edelstahl-Mim-Sinter-Hip-Ofen Echtzeit-Dynamische Überwachung

Vakuumwärmebehandlungs-Ofen
2024-11-12
Schlüsselfertiges Projekt für Zementierte/Wolframkarbid-Schneidwerkzeuge mit intelligentem Gasdruck-Sinterofen 00:35
Schlüsselfertiges Projekt für Zementierte/Wolframkarbid-Schneidwerkzeuge mit intelligentem Gasdruck-Sinterofen

Schlüsselfertiges Projekt für Zementierte/Wolframkarbid-Schneidwerkzeuge mit intelligentem Gasdruck-Sinterofen

Gasdruck-sinternder Ofen
2026-01-20
AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C 00:22
AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C

AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2025-09-08
5518 Teildrucksinterungsofen für Siliziumnitrid / Aluminiumnitrid / Siliziumkarbid 00:06
5518 Teildrucksinterungsofen für Siliziumnitrid / Aluminiumnitrid / Siliziumkarbid

5518 Teildrucksinterungsofen für Siliziumnitrid / Aluminiumnitrid / Siliziumkarbid

Gasdruck-sinternder Ofen
2024-11-12
Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung 00:27
Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung

Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung

Gasdruck-sinternder Ofen
2025-04-22
Horizontale Vakuum-Schnellkühlsinter HIP-Ofen mit 10mpa Druck 1800C Max Arbeitstemperatur. 00:13
Horizontale Vakuum-Schnellkühlsinter HIP-Ofen mit 10mpa Druck 1800C Max Arbeitstemperatur.

Horizontale Vakuum-Schnellkühlsinter HIP-Ofen mit 10mpa Druck 1800C Max Arbeitstemperatur.

Metallsinternder Ofen
2024-11-12
HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen 00:33
HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen

HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2024-11-12
Graphit-Heizungselement Hochtemperatur-Vakuumöfen Konstruktionstemperatur 1200-2500°C Anpassbar für 10-15T Kapazität 00:16
Graphit-Heizungselement Hochtemperatur-Vakuumöfen Konstruktionstemperatur 1200-2500°C Anpassbar für 10-15T Kapazität

Graphit-Heizungselement Hochtemperatur-Vakuumöfen Konstruktionstemperatur 1200-2500°C Anpassbar für 10-15T Kapazität

Ofen der hohen Temperatur Vakuum
2025-06-18
Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen 00:28
Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen

Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2025-04-22