logo

Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2025-09-08
1787 Ansichten
Kontaktieren Sie uns jetzt
CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung Die CVD-Beschichtungsmaschine ist eine hochmoderne Vakuumbeschichtungstechnik, bei der chemische Ablagerungsgeräte eingesetzt werden, um eine dünne Schicht ... Weitere Informationen
Nachrichten des Besuchers Hinterlassen Sie eine Nachricht.
Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C
Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C
Kontaktieren Sie uns jetzt
Mehr erfahren
In Verbindung stehende Videos
AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C 00:22
AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C

AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2025-09-08
Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C 00:34
Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C

Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2024-08-20
Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen 00:28
Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen

Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2025-04-22
HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen 00:33
HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen

HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen

Cvd-Beschichtungs-Maschine
2024-11-12
Schlüsselfertiges Projekt für Zementierte/Wolframkarbid-Schneidwerkzeuge mit intelligentem Gasdruck-Sinterofen 00:35
Schlüsselfertiges Projekt für Zementierte/Wolframkarbid-Schneidwerkzeuge mit intelligentem Gasdruck-Sinterofen

Schlüsselfertiges Projekt für Zementierte/Wolframkarbid-Schneidwerkzeuge mit intelligentem Gasdruck-Sinterofen

Gasdruck-sinternder Ofen
2026-01-20
Sintern mit 50 Hz Heizleistung MIM Sintern in Vakuumöfen 00:36
Sintern mit 50 Hz Heizleistung MIM Sintern in Vakuumöfen

Sintern mit 50 Hz Heizleistung MIM Sintern in Vakuumöfen

Vakuumwärmebehandlungs-Ofen
2025-08-25
Vakuumofen Typ Drucksintersinterofen in grauer Lackfarbe für fortschrittliches Sintern 00:42
Vakuumofen Typ Drucksintersinterofen in grauer Lackfarbe für fortschrittliches Sintern

Vakuumofen Typ Drucksintersinterofen in grauer Lackfarbe für fortschrittliches Sintern

Vakuumwärmebehandlungs-Ofen
2025-08-25
Anpassungsfähige Kammergröße Vakuum Hochdrucköfen für präzise Wärmebehandlungsanwendungen 00:26
Anpassungsfähige Kammergröße Vakuum Hochdrucköfen für präzise Wärmebehandlungsanwendungen

Anpassungsfähige Kammergröße Vakuum Hochdrucköfen für präzise Wärmebehandlungsanwendungen

industrieller Vakuumofen
2025-05-20
1-10MPa Gasdruck Drucksinterungsofen für Trockenvakuumsintern im Vakuumgrad 00:18
1-10MPa Gasdruck Drucksinterungsofen für Trockenvakuumsintern im Vakuumgrad

1-10MPa Gasdruck Drucksinterungsofen für Trockenvakuumsintern im Vakuumgrad

Sinterhüftenofen
2026-01-06
Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C 00:19
Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Ofen der hohen Temperatur Vakuum
2025-02-21
Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity 00:19
Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Sinterhüftenofen
2025-09-24
SIC-Karbid-Hochtemperatur-Sinterungsschutzherd für Vakuumsinternen 00:06
SIC-Karbid-Hochtemperatur-Sinterungsschutzherd für Vakuumsinternen

SIC-Karbid-Hochtemperatur-Sinterungsschutzherd für Vakuumsinternen

Sinterhüftenofen
2024-11-05
RDE-Serie Schnellkühl-Sinterofen mit 1600 °C max. Arbeitstemperatur und 35-minütiger Schnellkühlung in 1 Pa ultrareinem Vakuum 00:13
RDE-Serie Schnellkühl-Sinterofen mit 1600 °C max. Arbeitstemperatur und 35-minütiger Schnellkühlung in 1 Pa ultrareinem Vakuum

RDE-Serie Schnellkühl-Sinterofen mit 1600 °C max. Arbeitstemperatur und 35-minütiger Schnellkühlung in 1 Pa ultrareinem Vakuum

industrieller Vakuumofen
2026-01-06
Graphit-Heizungselement Hochtemperatur-Vakuumöfen Konstruktionstemperatur 1200-2500°C Anpassbar für 10-15T Kapazität 00:16
Graphit-Heizungselement Hochtemperatur-Vakuumöfen Konstruktionstemperatur 1200-2500°C Anpassbar für 10-15T Kapazität

Graphit-Heizungselement Hochtemperatur-Vakuumöfen Konstruktionstemperatur 1200-2500°C Anpassbar für 10-15T Kapazität

Ofen der hohen Temperatur Vakuum
2025-06-18
Tungsten Carbide Gas Pressure Vacuum Sintering Furnace with 3Pa/h Leakage Rate and 1550C Temperature 00:13
Tungsten Carbide Gas Pressure Vacuum Sintering Furnace with 3Pa/h Leakage Rate and 1550C Temperature

Tungsten Carbide Gas Pressure Vacuum Sintering Furnace with 3Pa/h Leakage Rate and 1550C Temperature

Sinterhüftenofen
2025-09-24