logo
produits
cooling water system
Zu Hause >

produits >

cooling water system Online-Hersteller

cooling water system (283)  Online-Hersteller

Präzise Temperaturregelung beim Vakuumsintern mit hochtemperaturbeständigem K-Typ-Thermoelement aus Kohlenstoffverbundstoff

Heizelement: Graphit, Molybdän

Temperaturüberwachungssystem: Steuerung PID

Beste Preis erhalten

320KVA Siemens Ofen der PLC-Steuerhohen temperatur Vakuum

Struktur: einzelne Kammer, horizental Art

Maß: Besonders angefertigt

Beste Preis erhalten

Sinternder Ofen der hohen Temperatur Vakuummit Entparaffinierungs-Funktion

Struktur: einzelne Kammer, horizental Art

Maß: 500*500*1800

Beste Preis erhalten

MT-CVD HT-CVD Beschichtungsöfen mit hoher Beschichtungsqualität und anpassbarem Reaktor

Beschichtende Temperatur: 200-1050℃

Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle

Beste Preis erhalten

Anpassungsfähiger 900-1050C chemischer Dampf-Aluminierungsofen mit Hf Zr und Si-Codeposition

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

Beste Preis erhalten

Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Beste Preis erhalten

Individuell angepasste Cvd-Labor-Vakuumöfen Chemische Dampfdeposition Cvd-Beschichtungöfen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Beste Preis erhalten

Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Beste Preis erhalten

Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

Chinesische Fabrik ISO CE-Zertifikat Vakuumdruckloser Ofen mit maximaler Arbeitstemperatur 2500C Temperatur

Max.Betriebstemperatur: 2500℃

Temperaturgleichheit: ≤±5℃

Beste Preis erhalten
Ein guter Preis. 1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum Online Video

1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

Beste Preis erhalten
Ein guter Preis. Präzisions- 1800C-Siliziumkarbid-Reaktions-Sinterofen mit Temperatur-Einheitlichkeit ≤±5C Online Video

Präzisions- 1800C-Siliziumkarbid-Reaktions-Sinterofen mit Temperatur-Einheitlichkeit ≤±5C

Max.Betriebstemperatur: 1800℃

Temperaturgleichheit: ≤±5℃

Beste Preis erhalten
Ein guter Preis. Hersteller von Hochtemperatur-Gasdrucksinteröfen für Siliziumcarbid/Nitrid Online Video

Hersteller von Hochtemperatur-Gasdrucksinteröfen für Siliziumcarbid/Nitrid

Verpackung Informationen: Holzgehäuse

Lieferzeit: 4 bis 5 Monate

Beste Preis erhalten

Hoher Automatisierungs-Silikon-Karbidofen, industrielle Vakuumofen-Heizkraft 320 KVA

Name: Hochvakuum-Ofen

Max.temperature: 1800℃

Beste Preis erhalten

AC380V-/50Hzvakuumkompressions-Ofen mit max. Ladegewicht 2000kg

Kammer-Größe: Besonders angefertigt

Produkt-Name: Gasdruck-sinternder Ofen

Beste Preis erhalten

5-20um Chemische Dampfdeposition Beschichtungsmaschine mit Beschichtungstemperatur 200-1050°C

Beschichtungsart: CVD

Beschichtungsdicke: 5-20 um

Beste Preis erhalten
10 11 12 13 14 15 16 17

Senden Sie Ihre Anfrage direkt an uns

Datenschutzrichtlinie China Gute Qualität Sinterhüftenofen Lieferant. Urheberrecht © 2019-2025 sinterhipfurnace.com . Alle Rechte vorbehalten.