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high pressure furnace (484) Online-Hersteller

Video

Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

Video

Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Max.Betriebstemperatur ((°C): 1200

Temperaturgleichheit ((°C): ≤ ± 3

Beste Preis erhalten

Video

Präzisions- 1800C-Siliziumkarbid-Reaktions-Sinterofen mit Temperatur-Einheitlichkeit ≤±5C

Max.Betriebstemperatur: 1800℃

Temperaturgleichheit: ≤±5℃

Beste Preis erhalten

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Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Max.Betriebstemperatur: 1800 ℃

Temperatur Gleichmäßigkeit: ≤ ± 5 ℃

Beste Preis erhalten

CVD-Beschichtungsöfen aus Siliziumkarbid für Graphit-Suppositoren oder Ätzerringe

Verpackung Informationen: Holzgehäuse

Lieferzeit: 5 bis 6 Monate

Beste Preis erhalten

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China CVD Ofen Manufactures, Siliziumkarbid Beschichtung Maschine

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

Beste Preis erhalten

Hochtemperatur-Industrie-Reinigungsöfen für Graphitmaterialien

Max.Betriebstemperatur: 2400℃

Temperaturgleichheit: ≤±10℃

Beste Preis erhalten

Video

800-1300°C Super-Hochvakuum- und Hochtemperatur-Batchsystem-Lautöfen für Stahl- oder Kupfermaterialien

Max.Betriebstemperatur ((°C): 1300

Temperature uniformity(℃）: ≤±3

Beste Preis erhalten

320KVA Siemens Ofen der PLC-Steuerhohen temperatur Vakuum

Struktur: einzelne Kammer, horizental Art

Maß: Besonders angefertigt

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RDE Siliziumkarbid-Beschichtungsmaschine CVD Chemische Dampfdeposition

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

Beste Preis erhalten

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HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

Beste Preis erhalten

Video

Silikonnitrid-Keramik-Sinterofen mit 60 bar Druck und anpassbarem Arbeitsraum

Arbeitsfläche: 400*400*1200mm oder nach Kundenwunsch angepasst

Arbeitsdruck: Stange 60

Beste Preis erhalten

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Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen für Zement-/Wolframkarbid-Schneidwerkzeug

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

Video

CVD-Beschichtungsofen mit CO-Vorläufer und Gasverteiler für die zweite Stufe

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

Video

Honeycomb Keramik-CVD-Beschichtungs-Ofen für die Prozesstemperatur von 700-1050 °C und optionale Off-Gas-Neutralisierung

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

1200-2500°C Auslegungstemperatur Hochtemperatur-Vakuumofen mit Beobachtungsloch

Größe der Kammer: Anpassbar (200*200*400/400*400*1200/500*500*1800mm)

Das ultimative Vakuum: 3,67*10-3 Pa

Beste Preis erhalten

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Silikon-Karbidofen

Cvd-Beschichtungs-Maschine

Doppeltes Kontrollsystem-Vakuumsinternder Ofen, Metallsinternmaschine 6MPa HIP

20 / 24/34 Tonne Gewichts-Sinter HIP-Ofen-abkühlende Wasserstrom-Rate 600 l/min

Metallpulver-Spritzen-keramischer sinternder Ofen-/Vakuummetallsinternder Ofen

Vakuumdruck-Metallsinternder Ofen für Hartmetall-Forschung

Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Präzisions- 1800C-Siliziumkarbid-Reaktions-Sinterofen mit Temperatur-Einheitlichkeit ≤±5C

Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

CVD-Beschichtungsöfen aus Siliziumkarbid für Graphit-Suppositoren oder Ätzerringe

China CVD Ofen Manufactures, Siliziumkarbid Beschichtung Maschine

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800-1300°C Super-Hochvakuum- und Hochtemperatur-Batchsystem-Lautöfen für Stahl- oder Kupfermaterialien

320KVA Siemens Ofen der PLC-Steuerhohen temperatur Vakuum

RDE Siliziumkarbid-Beschichtungsmaschine CVD Chemische Dampfdeposition

HTCVD Siliziumkarbid CVD SIC Epitaxy-Wachstöfen mehrere Temperaturkontrollzonen

Silikonnitrid-Keramik-Sinterofen mit 60 bar Druck und anpassbarem Arbeitsraum

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CVD-Beschichtungsofen mit CO-Vorläufer und Gasverteiler für die zweite Stufe

Honeycomb Keramik-CVD-Beschichtungs-Ofen für die Prozesstemperatur von 700-1050 °C und optionale Off-Gas-Neutralisierung

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