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vacuum furnace equipment (430) Online-Hersteller

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Gasdrucksinteröfen für Präzisionskeramische Verbundmaterialien auf Kupferbasis aus Zementkarbid und Edelstahl

Betriebstemperatur: 1200-1800℃

Gasdruck: 1-10MPa

Beste Preis erhalten

CVD-Beschichtungsöfen aus Siliziumkarbid für Graphit-Suppositoren oder Ätzerringe

Verpackung Informationen: Holzgehäuse

Lieferzeit: 5 bis 6 Monate

Beste Preis erhalten

Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Beste Preis erhalten

Präzise Temperaturregelung Vakuum Wärmebehandlung Brazenofen Max. Arbeitstemperatur 1200C Temperaturuniformität ≤±3

Max.Betriebstemperatur ((°C): 1200

Temperaturgleichheit ((°C): ≤ ± 3

Beste Preis erhalten

Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen für Zement-/Wolframkarbid-Schneidwerkzeug

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

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Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung

Abkühlzeit: ≤1h/4h/5h/6h/8h ((Leere Öfen,Kühlung durch Sintern Temperatur 1450-100°C) Wassertemperatur ≤26°C,Was

Größe: Individualisiert

Beste Preis erhalten

Vakuumdruck-Ofen der maximalen Temperatur-1600℃, Sinter HIP-Ofen-Wachs-Sammlungs-Rate 98%

Name: Vakuumdruckofen

Wachs-Sammlungsrate: 98%

Beste Preis erhalten

Benutzerfreundliches Keramik-Vakuumsinternder Ofen für Hartmetall

Verwendung: sinternder Ofen

Garantie: 1-jährig

Beste Preis erhalten

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Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C

Reaktor: 2 Stück

Maximale Temperatur:: 1100℃

Beste Preis erhalten

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SIC-Karbid-Hochtemperatur-Sinterungsschutzherd für Vakuumsinternen

Farbe der Farbe: Grau, blau, weiß, schwarz.

Lebensdauer der Schalen: 20 Jahre

Beste Preis erhalten

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1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 100010001500mm Wirkungsraum

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

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Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Beste Preis erhalten

Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

Honeycomb Keramik-CVD-Beschichtungs-Ofen für die Prozesstemperatur von 700-1050 °C und optionale Off-Gas-Neutralisierung

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Hochtemperatur-Industrie-Reinigungsöfen für Graphitmaterialien

Max.Betriebstemperatur: 2400℃

Temperaturgleichheit: ≤±10℃

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Spezielle Keramik-Gas-Druck-Sinterofen mit maximaler Temperatur von 2000 °C

Formmittel: Paraffin, PEG, Kautschuk, C12H22O5n usw.

Temperaturmessung: W-Re 5/26 Thermoelement + Infrarot-Pyrometer

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Wärmebehandlungs-Öfen des Höchstlast-1800Kg, energiesparender Hochvakuum-Ofen

Große Kapazitäts-Vakuumofen für Wärmebehandlungs-Spezifikationen RDE-GWL-5518

Horizontaler industrieller Vakuumofen mit zylinderförmigen Struktur-Heizelementen

Gasdrucksinteröfen für Präzisionskeramische Verbundmaterialien auf Kupferbasis aus Zementkarbid und Edelstahl

CVD-Beschichtungsöfen aus Siliziumkarbid für Graphit-Suppositoren oder Ätzerringe

Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Präzise Temperaturregelung Vakuum Wärmebehandlung Brazenofen Max. Arbeitstemperatur 1200C Temperaturuniformität ≤±3

Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen für Zement-/Wolframkarbid-Schneidwerkzeug

Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung

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Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C

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