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vacuum furnace systems (350)  Online-Hersteller

Energiesparender Sinter HIP-Ofen gab Gas erlaubtes AR/N2/ihn genehmigtes ISO9001 ein

Name: Sinter-Hüften-Ofen

Max.Temperature: 1600℃

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Der Kompaktbauweise-MIM Zone sinternder Ofen-Temperaturüberwachungs-des Modus-2

Name: MIM Sinterofen

Temperaturmessungsmodus:: Thermoelement WRe5-26

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Gasdruck-sinternder Ofen-multi Atmosphäre nach Maß gesteuert

Arten: Gasdruck-sinternder Ofen

Heizmethode: Widerstrebende Heizung

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Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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500kg Last 1MPa staubsaugen Sintern unter Druck gesetzten Ofen für Hartmetall

Kühlzeit: mindestens 6 Stunden

Druck: 1MPa

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Ein guter Preis. Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C Online Video

Hochtemperatur-Vakuum-Dampf-Ablagerungs-Ofen mit maximalem Temperaturbereich von 1100 °C

Reaktor: 2 Stück

Maximale Temperatur:: 1100℃

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Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Hohe automatische Abklingzeit des sinternden Ofen-MIM 300-420min/480min

Name: MIM Sinterofen

Farbe: Weiß

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Ein guter Preis. 1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum Online Video

1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

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Schützende sinternder Ofen-materielle Quantität 32/42 PC der Umwelt-MIM

Name: MIM Sinterofen

Max. Betriebstemperatur: 1550°C

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Anpassungsfähiger 900-1050C chemischer Dampf-Aluminierungsofen mit Hf Zr und Si-Codeposition

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Ein guter Preis. Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen Online Video

Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen

Beschichtungsverfahren: Chemische Dampfdeposition (CVD)

Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW

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Voller automatischer Sinter HIP-Ofen für Pulver-Metallurgie-widerstrebende Heizung

Spezifikation: Kann entsprechend Kundenanforderungen besonders angefertigt werden

Einsatzbereich: Pulvermetallurgie

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Pid-Steuerintegriertes Vakuumsinternder Ofen mit periodischer Heizungsstruktur

Effektiver Arbeitsbereich: 200*200*400

Max.loading-weignt: 50 kg

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Industrielles PC Steuerlegierungs-Vakuumsinternder Ofen

Nutzungsdauer: 20 Jahre

Betriebszeiten: 300mal/Jahr

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