Vakuumsinternder Ofen Fabrik, Guten Preis kaufen MIM sinternder Ofen produits

RDE-Wärmebehandlungs-sinternder Ofen mit Ladegewicht 500-1500kg

Verwendung: Sinternder Ofen, Wärmebehandlungs-Ofen, Vakuumofen

Garantie: 12 Monate

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Produzierend asphaltieren Cermets wie Zahnfüllungen mit RDE sinternden Ofen

Verpackung Informationen: Spezielle Holzkiste

Lieferzeit: 5-8 Monate

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Individuell angepasste Cvd-Labor-Vakuumöfen Chemische Dampfdeposition Cvd-Beschichtungöfen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Honeycomb Keramik-CVD-Beschichtungs-Ofen für die Prozesstemperatur von 700-1050 °C und optionale Off-Gas-Neutralisierung

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen für Zement-/Wolframkarbid-Schneidwerkzeug

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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CVD-Beschichtungsofen mit CO-Vorläufer und Gasverteiler für die zweite Stufe

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Silikonnitrid-Keramik-Sinterofen mit 60 bar Druck und anpassbarem Arbeitsraum

Arbeitsfläche: 400*400*1200mm oder nach Kundenwunsch angepasst

Arbeitsdruck: Stange 60

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Erweiterter Vakuumbräser für die AMB-Bindung keramischer Substrate bei 1200 °C

Max.Betriebstemperatur ((°C): 1200

Temperaturgleichheit ((°C): ≤ ± 3

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Gasdruck-Sinterofen zum Sintern von Keramiksubstraten aus Siliziumnitrid, Lagerkugeln, Kugelventilkörpern

Max.Arbeitsdruck (MPa): 1 bis 10

Max.Betriebstemperatur: 2000

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CE ISO Hochtemperatur-Vakuumgas-Druck-Sinterofen für Keramik-Siliciumnitrid

Max.Arbeitsdruck (MPa): 1 bis 10

Max.Betriebstemperatur: 2000

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Graphitisationsöfen für die industrielle Vakuumgraphitisierung für Kohlenstoffmaterial

Max.Betriebstemperatur ((°C): 2500

Endvakuum (Pa): 1

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Präzise Temperaturregelung Vakuum Wärmebehandlung Brazenofen Max. Arbeitstemperatur 1200C Temperaturuniformität ≤±3

Max.Betriebstemperatur ((°C): 1200

Temperaturgleichheit ((°C): ≤ ± 3

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Pulvermetallurgie Industrieheizungsanlagen

Max.Arbeitsdruck (MPa): 1 bis 10

Max.Betriebstemperatur: 2000

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Zhuzhou Ruideer Metallurgy Equipment Manufacturing Co.,Ltd Produkte im Internet

Sinterhüftenofen

Gasdruck-sinternder Ofen