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RDE-Abschneidungs-Kontroll-Sinterofen

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Automatischer Vakuumsintern

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Präzise Temperaturkontrolle Vakuumsinternen Ofen

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Goldschwarze Schicht CVD-Beschichtungs-Maschine für die CNC-Karbid-Werkzeuge, die Service beschichten

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Höhere Verschleißfestigkeit integrierte CVD-Beschichtungs-Maschine für CNC-Karbid-Werkzeuge

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Faltbare Schirm-Scharniere CIM MIM Sintering Furnace For Processsing

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Sinternder Ofen mit 10 MPa für das Sintern des Hartmetalls, Keramik

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In hohem Grade automatische RDE 530L CVD-Beschichtungs-Maschine mit zwei Reaktions-Kammern

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4412 6MPa sintern HIP-Ofen für Hartmetall-Materialien

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86--16673365810

shirley.xiao@zzrde.com

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Rapid cooling Ceramic Sintering Furnace

Max.Loading-Gewicht: 50/100/150/300/500/1200/1500 kgs

Arbeitsdruck: 20/20/30/60/100/200 Bar

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Highly and advanced Ceramic heat treatment furnace with 10/20/30/60/100/200 Bar pressure

Leistung: 380V

Kontrolle der Atmosphäre: Gasmischsystem

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Precision 1800C Silicon Carbide Reaction Sintering Furnace with ≤±5C Temperature Uniformity

Max.Betriebstemperatur: 1800 ℃

Temperatur Gleichmäßigkeit: ≤ ± 5 ℃

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Tungsten Carbide Gas Pressure Vacuum Sintering Furnace with 3Pa/h Leakage Rate and 1550C Temperature

Max. Arbeitszeit.: 1600 ℃

Arbeitstemperatur: 1550℃

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Vakuum-Wärmebehandlungs-Ofen mit Gasdruck- und Entweißsystem 1-20MPA

Verpackung Informationen: Holzfälle

Lieferzeit: 5-6 Monate

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CE ISO Zertifikat Gasdruck-Sinterofen 1-20MPA mit ultrareiner Kupfer-Dichtungselektrode

Verpackung Informationen: Holzfälle

Lieferzeit: 5-6 Monate

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Unidirektionaler oder bidirektionaler Hochtemperatur- und Hochdruck-Sinterofen für die Materialverdichtung

Max. Arbeitstemperatur (℃）: 2100

Temperaturgleichheit ((°C): ≤±5

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Vakuum-Hochtemperatur-Sinterofen für elektronische Keramik/Pulvermetallurgie/magnetische Werkstoffe

Max. Arbeitstemperatur (℃）: 2100

Temperaturgleichheit ((°C): ≤±5

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Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen für Zement-/Wolframkarbid-Schneidwerkzeug

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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CVD-Beschichtungsofen mit CO-Vorläufer und Gasverteiler für die zweite Stufe

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

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Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Anpassungsfähiger 900-1050C chemischer Dampf-Aluminierungsofen mit Hf Zr und Si-Codeposition

Temp.of deposition((℃): 900-1050

Process pressure(mbar): 100-300

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Honeycomb Keramik-CVD-Beschichtungs-Ofen für die Prozesstemperatur von 700-1050 °C und optionale Off-Gas-Neutralisierung

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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Individuell angepasste Cvd-Labor-Vakuumöfen Chemische Dampfdeposition Cvd-Beschichtungöfen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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