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Zhuzhou Ruideer Metallurgy Equipment Manufacturing Co.,Ltd Produkte im Internet

Wolframkarbid-Vakuumschmelzofen Chinesischer Lieferant Hochdruck-Internationales Zertifikat

Workingspace: 12-1000L

Max. ArbeitsdruckMax. Arbeitsdruck ((MPA): 1、2、6、10、20

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Ein guter Preis. CE-Zertifikat Vakuum-Labor-Ofen zum Brazen Online Video

CE-Zertifikat Vakuum-Labor-Ofen zum Brazen

Max.Betriebstemperatur: 1300°C

Betriebstemperatur: 1200℃

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Ein guter Preis. Anpassungsfähiger Vakuumsinterofen für die Herstellung von Pulvermetallurgie Online Video

Anpassungsfähiger Vakuumsinterofen für die Herstellung von Pulvermetallurgie

Verpackung Informationen: Holzgehäuse

Lieferzeit: 5-6 Monate

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Vertikal einheitliche Atmosphäre Gasdruck Sinterofen für hohe Temperatur von 2000 °C in N2 Gas Eingang

Heizzone: einzeln/doppelt/multi

Temperaturmessung: W-Re 5/26 Thermoelement + Infrarot-Pyrometer

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Oszillierende, heißpressierende Sinteröfen für Keramik, feuerfeste Karbide, Cermets, Verbundpulver

Maximum static pressure: 1500/2100/2300℃

Dimension of constant temperature zone: Ф160x160 mm/Ф160x200 mm

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Ein guter Preis. 800-1300°C Super-Hochvakuum- und Hochtemperatur-Batchsystem-Lautöfen für Stahl- oder Kupfermaterialien Online Video

800-1300°C Super-Hochvakuum- und Hochtemperatur-Batchsystem-Lautöfen für Stahl- oder Kupfermaterialien

Max.Betriebstemperatur ((°C): 1300

Temperature uniformity(℃): ≤±3

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Ein guter Preis. Schnellkühl-Sinterofen mit Bläser und Wärmetauscher von 1400°C bis 100°C Online Video

Schnellkühl-Sinterofen mit Bläser und Wärmetauscher von 1400°C bis 100°C

Max. Arbeitszeit.: 1800℃

Max.working-Druck: 9.8bar

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AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Ein guter Preis. Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung Online Video

Hochenergieeffizienter Gasdrucksinterofen für einheitliche Temperaturatmosphäre und schnelle Kühlung

Abkühlzeit: ≤1h/4h/5h/6h/8h ((Leere Öfen,Kühlung durch Sintern Temperatur 1450-100°C) Wassertemperatur ≤26°C,Was

Größe: Individualisiert

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Ein guter Preis. Erweiterte CVD-Beschichtungsmaschine für Keramik-Substrat Online Video

Erweiterte CVD-Beschichtungsmaschine für Keramik-Substrat

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

Beschichtungshaftung: Stärker

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Ein guter Preis. Hochtemperatur-Legierungskammer Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsmaschine für Wolframkarbid-Schneidwerkzeug Online Video

Hochtemperatur-Legierungskammer Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsmaschine für Wolframkarbid-Schneidwerkzeug

Vorläufer und Prozessgase: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Größe der Beschichtungsanlage: Anpassbar

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Ein guter Preis. Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen Online Video

Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen

Beschichtungsverfahren: Chemische Dampfdeposition (CVD)

Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW

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Ein guter Preis. Elektrische Widerstandsheizung CVD-Beschichtungsmaschine für Hochtemperaturbeschichtung bis zu 1000 °C chinesisches und schlüsselfertiges Projekt Online Video

Elektrische Widerstandsheizung CVD-Beschichtungsmaschine für Hochtemperaturbeschichtung bis zu 1000 °C chinesisches und schlüsselfertiges Projekt

Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

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Ein guter Preis. Industriestandards Vakuumwiderstands-Ofen mit hoher Energieeffizienz und individuellen Anforderungen Online Video

Industriestandards Vakuumwiderstands-Ofen mit hoher Energieeffizienz und individuellen Anforderungen

Abkühlzeit: ≤1h/4h/5h/6h/8h ((Leere Öfen,Kühlung durch Sintern Temperatur 1450-100°C) Wassertemperatur ≤26°C,Was

Höchsttemperatur: 2000℃

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Hochtemperaturbeschichtungsverfahren mit Vorläufern und Prozessgasen TiCl4 AlCl3 CH3CN H2 N2 Ar CH4 CO2 HCl H2S

Vorläufer und Prozessgase: TiCl4、AlCl3、CH3CN、H2、N2、Ar、CH4、CO、CO2、HCl、H2S

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

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