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chemical vapor deposition cvd coating furnace (16)  Online-Hersteller

Individuell angepasste Cvd-Labor-Vakuumöfen Chemische Dampfdeposition Cvd-Beschichtungöfen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

Beste Preis erhalten

MT-CVD HT-CVD Beschichtungsöfen mit hoher Beschichtungsqualität und anpassbarem Reaktor

Beschichtende Temperatur: 200-1050℃

Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle

Beste Preis erhalten

Honeycomb Keramik-CVD-Beschichtungs-Ofen für die Prozesstemperatur von 700-1050 °C und optionale Off-Gas-Neutralisierung

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

CVD-Beschichtungsofen mit CO-Vorläufer und Gasverteiler für die zweite Stufe

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen mit TiCL4, AICL3-Vorläufern und Prozessgasen

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

Beste Preis erhalten

Chemische Dampfdeposition-Beschichtungsöfen für Zement-/Wolframkarbid-Schneidwerkzeug

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen

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AICL3 Vorläufer Chemische Dampfdeponieofen für Schneidwerkzeuge bei Prozesstemperatur 700-1050 °C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

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Ein guter Preis. RDE Siliziumkarbid-Beschichtungsmaschine CVD Chemische Dampfdeposition Online Video

RDE Siliziumkarbid-Beschichtungsmaschine CVD Chemische Dampfdeposition

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

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CVD-Beschichtungsöfen aus Siliziumkarbid für Graphit-Suppositoren oder Ätzerringe

Verpackung Informationen: Holzgehäuse

Lieferzeit: 5 bis 6 Monate

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Ein guter Preis. Elektrische Widerstandsheizung CVD-Beschichtungsmaschine für Hochtemperaturbeschichtung bis zu 1000 °C chinesisches und schlüsselfertiges Projekt Online Video

Elektrische Widerstandsheizung CVD-Beschichtungsmaschine für Hochtemperaturbeschichtung bis zu 1000 °C chinesisches und schlüsselfertiges Projekt

Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW

Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.

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Weiterentwickelte CVD/CVI-Dampfdeponieöfen für TiC-TiN-TiCN-a-AL2O3- und K-AI2O3-Beschichtung bei Prozesstemperaturen von 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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Ein guter Preis. Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen Online Video

Temperatur-Legierungskammer Elektrowiderstand Heizung CVD-Ofen für individuell angepasste Metall- oder Keramikunterlagen

Beschichtungsverfahren: Chemische Dampfdeposition (CVD)

Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW

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Ein guter Preis. China CVD Ofen Manufactures, Siliziumkarbid Beschichtung Maschine Online Video

China CVD Ofen Manufactures, Siliziumkarbid Beschichtung Maschine

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

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TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 Beschichtungen CVD-Ofen mit Temperaturregelung von 700-1050 °C

Heizzone: 4 Stück/5 Stück

Maximale Temperatur:: 1100℃

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Ein guter Preis. 1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum Online Video

1500C CVD SIC Epitaxy-Wachstumsöfen für Siliziumkarbid-Wachstum in 1000*1000*1500mm Wirkungsraum

Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500

Heizleistung ((KVA): 300

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Anpassbarer CVD-Ofen mit TiC/TiN/TiCN/Al2O3-Beschichtung mit Prozesstemperatur 700-1050 °C

Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050

Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3

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