chemical vapor deposition cvd coating furnace (16) Online-Hersteller
Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050
Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Beschichtende Temperatur: 200-1050℃
Kühlsystem: 2 Sätze hochleistungsfähiger, wassergekühlter Kondensatfalle
Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050
Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen
Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050
Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen
Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050
Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen
Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050
Vorläufer und Prozessgase: Die in Anhang I der Verordnung (EG) Nr. 1907/2006 aufgeführten Verfahren gelten nicht für die Verwen
Process temperature((℃): 700-1050
Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S
Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500
Heizleistung ((KVA): 300
Verpackung Informationen: Holzgehäuse
Lieferzeit: 5 bis 6 Monate
Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW
Beschichtungssubstrate: Metall, Keramik, Glas usw.
Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050
Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
Beschichtungsverfahren: Chemische Dampfdeposition (CVD)
Gesamtleistung: Ungefähr 40/50/60/80KW
Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500
Heizleistung ((KVA): 300
Heizzone: 4 Stück/5 Stück
Maximale Temperatur:: 1100℃
Wirkungsbereich ((mm): 1000*1000*1500
Heizleistung ((KVA): 300
Prozesstemperatur (°C): 700 bis 1050
Beschichtungsarten: TiC、TiN、TiCN、a-AL2O3、K-AI2O3
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